MOCVD(STAR/DISC)
MOCVD(STAR/DISC)
详细说明
1. 提供客制化服务
2. 质量稳定,交期迅速
3. 穴内平面度佳
4. 高性价比
5. 寿命长
应用领域
MOCVD反应腔中之碳化硅盖板与载盘,广泛应用于化合物半导体磊晶制程。
产品需求特性
1.耐高温
2.导热率高
3.无particle产生之问题
4.热稳定性佳
2.导热率高
3.无particle产生之问题
4.热稳定性佳
凱樂士優異之處
2. 质量稳定,交期迅速
3. 穴内平面度佳
4. 高性价比
5. 寿命长